分子線エピタキシー（MBE）は、結晶基板上に高品質の結晶薄膜を成長させるための新しい技術です。超高真空条件では、加熱ストーブによって必要なすべての種類のコンポーネントが装備され、ビーム原子または分子ビームをコリメートした後に形成された穴を通して蒸気を生成し、単結晶基板の適切な温度に直接注入し、分子ビームを制御します同時に基板をスキャンすると、結晶配向層の分子または原子を作成して、基板上に薄膜を形成することができます。

MBE装置の通常の操作では、高純度、低圧、超清浄な液体窒素を装置の冷却チャンバーに継続的かつ安定的に輸送する必要があります。一般に、液体窒素を供給するタンクの出力圧力は0.3MPa〜0.8MPaです。-196℃の液体窒素は、パイプライン輸送中に容易に気化して窒素になります。気液比が約1：700の液体窒素がパイプラインでガス化されると、それは大量の液体窒素の流れ空間を占有し、液体窒素パイプラインの端での通常の流れを減少させます。また、液体窒素貯蔵タンクには、清掃されていない破片が存在する可能性があります。液体窒素パイプラインでは、湿った空気の存在も氷スラグの生成につながります。これらの不純物が装置に排出されると、装置に予期しない損傷を与える可能性があります。

したがって、屋外貯蔵タンク内の液体窒素は、高効率、安定性、クリーンで、低圧、窒素、不純物、24時間中断することなく、無塵ワークショップのMBE機器に輸送されます。このような輸送制御システムは認定製品。